;
N'ihe gbasara imepụta semiconductor, nke na-agbaso nkenke kachasị, ọnụọgụ nke mgbasawanye ọkụ bụ otu n'ime isi ihe na-emetụta àgwà ngwaahịa na nkwụsi ike mmepụta. N'ime usoro niile site na fotolithography, etching na nkwakọ ngwaahịa, ọdịiche dị na ọnụọgụ mgbasawanye ọkụ nke ihe nwere ike igbochi nrụpụta nrụpụta n'ụzọ dị iche iche. Agbanyeghị, ntọala granite, yana ọnụọgụ mgbasawanye ọkụ ya dị ala, abụrụla isi ihe na-edozi nsogbu a. ;
Usoro lithography: nrụrụ okpomọkụ na-akpata mgbanwe ụkpụrụ
Photolithography bụ isi nzọụkwụ n'ichepụta semiconductor. Site na igwe fotolithography, a na-ebufe usoro sekit na nkpuchi ahụ n'elu wafer nke a na-ekpuchi ya na fotoresisist. N'oge usoro a, njikwa okpomọkụ dị n'ime igwe fotolithography na nkwụsi ike nke tebụl ọrụ dị oke mkpa. Were ihe igwe ọdịnala dịka ọmụmaatụ. Ọnụ ọgụgụ ha nke mgbasawanye thermal bụ ihe dịka 12 × 10⁻⁶ / ℃. N'oge a na-arụ ọrụ nke igwe fotolithography, okpomọkụ na-emepụta site na isi iyi ọkụ laser, anya anya anya na ihe ndị na-arụ ọrụ ga-eme ka okpomọkụ nke akụrụngwa na-ebili site na 5-10 ℃. Ọ bụrụ na igwe lithography nke na-arụ ọrụ na-eji ntọala ígwè, isi ihe dị mita 1 nwere ike ime ka nrụrụ gbasaa nke 60-120 μm, nke ga-eduga n'ịgbanwe n'ọnọdụ dị n'etiti nkpuchi na wafer. ;
N'ime usoro nrụpụta dị elu (dị ka 3nm na 2nm), oghere transistor bụ naanị nanometer ole na ole. Obere nrụrụ ọkụ dị otú ahụ zuru oke iji mee ka usoro fotolithography bụrụ nke na-adịghị mma, na-eduga na njikọ transistor na-adịghị mma, obere sekit ma ọ bụ sekit mepere emepe, na okwu ndị ọzọ, na-ebute kpọmkwem ọdịda nke ọrụ mgbawa. Ọnụ ọgụgụ mgbasawanye okpomọkụ nke isi granite dị ala dị ka 0.01μm / ° C (ie, (1-2) ×10⁻⁶ / ℃), na nrụrụ n'okpuru otu mgbanwe okpomọkụ bụ naanị 1 / 10-1 / 5 nke metal. Ọ nwere ike ịnye igwe na-ebu ibu kwụsiri ike maka igwe fotolithography, na-ahụ na mbufe nke ụkpụrụ fotolithography na-abawanye nke ọma ma na-emeziwanye mkpụrụ nke nrụpụta mgbawa. ;
Etching na ntinye: metuta nha nha nha nke nhazi ahụ
Etching na ntinye bụ usoro dị mkpa maka iwu ụlọ sekit nwere akụkụ atọ n'elu wafer. N'oge usoro etching, gas na-emeghachi omume na-enweta mmeghachi omume kemịkalụ na ihe dị elu nke wafer. Ka ọ dị ugbu a, ihe ndị dị ka ọkụ ọkụ RF na njikwa ikuku gas n'ime akụrụngwa na-emepụta okpomọkụ, na-eme ka okpomọkụ nke wafer na akụrụngwa na-ebili. Ọ bụrụ na ọnụọgụ nke mgbasawanye ọkụ nke onye na-ebu wafer ma ọ bụ ntọala akụrụngwa adabaghị na nke wafer (ọnụọgụ nke mgbasawanye ọkụ nke silicon ihe dị ka 2.6 × 10⁻⁶ / ℃), a ga-eme ka nrụgide thermal pụta mgbe ọnọdụ okpomọkụ gbanwere, nke nwere ike ime ka obere mgbape ma ọ bụ ịgbagha n'elu wafer. ;
Ụdị nrụrụ a ga-emetụta omimi etching na verticality nke mgbidi dị n'akụkụ, na-eme ka akụkụ nke oghere ndị etched, site na oghere na ihe ndị ọzọ na-esi na ihe ndị a chọrọ. N'otu aka ahụ, n'ime usoro ntinye ihe nkiri dị mkpa, ọdịiche dị na mgbasawanye ọkụ nwere ike ime ka nrụgide dị n'ime ya dị na ihe nkiri ahụ a na-etinye na ya, na-eduga ná nsogbu ndị dị ka mgbawa na peeling nke ihe nkiri ahụ, nke na-emetụta arụmọrụ eletriki na ntụkwasị obi ogologo oge nke mgbawa. Iji ntọala granite nwere ọnụọgụ mgbasawanye ọkụ dị ka nke ihe silicon nwere ike belata nrụgide okpomọkụ nke ọma ma hụ nkwụsi ike na izi ezi nke usoro etching na ntinye. ;
Nkwakọ ngwaahịa: ndakọrịta okpomọkụ na-akpata nsogbu ntụkwasị obi
N'ime nkwakọ ngwaahịa semiconductor, ndakọrịta nke ọnụọgụ mgbasawanye thermal n'etiti mgbawa na ihe nkwakọ ngwaahịa (dịka epoxy resin, ceramics, wdg) dị oke mkpa. Ọnụ ọgụgụ mgbasawanye okpomọkụ nke silicon, ihe bụ isi nke ibe, dị ntakịrị, ebe nke ọtụtụ ihe nkwakọ ngwaahịa dị elu. Mgbe okpomọkụ nke mgbawa na-agbanwe n'oge a na-eji ya eme ihe, nrụgide okpomọkụ ga-eme n'etiti mgbawa na ihe nkwakọ ngwaahịa n'ihi ndakọrịta nke ọnụọgụ mgbasawanye ọkụ. ;
Nchegbu okpomọkụ a, n'okpuru mmetụta nke usoro okpomọkụ ugboro ugboro (dị ka ikpo ọkụ na oyi n'oge arụ ọrụ nke mgbawa), nwere ike iduga ike ọgwụgwụ nke nkwonkwo solder n'etiti mgbawa na ngwongwo nkwakọ ngwaahịa, ma ọ bụ mee ka eriri njikọ dị n'elu mgbawa ahụ daa, n'ikpeazụ na-ebute ọdịda nke njikọ eletrik nke mgbawa. Site n'ịhọrọ ihe nkwakọ ngwaahịa nwere ọnụọgụ mgbasawanye ọkụ dị nso na nke ihe silicon na iji nyiwe ule granite nwere nkwụsi ike dị mma maka nchọpụta ziri ezi n'oge usoro nkwakọ ngwaahịa, enwere ike belata nsogbu nke enweghị nkwekọrịta nke ọma, enwere ike imezi ntụkwasị obi nke nkwakọ ngwaahịa, yana ndụ ọrụ nke mgbawa nwere ike ịgbatị ogologo oge. ;
Njikwa gburugburu ebe mmepụta ihe: Nkwụsi ike a na-ahazi nke akụrụngwa na ụlọ mmepụta ihe
Na mgbakwunye na-emetụta kpọmkwem usoro mmepụta ihe, ọnụọgụ nke mgbasawanye ọkụ na-ejikọta ya na njikwa gburugburu ebe obibi nke ụlọ ọrụ semiconductor. Na nnukwu ụlọ ọrụ mmepụta ihe semiconductor, ihe ndị dị ka mmalite na nkwụsị nke usoro ikuku oyi na ikpo ọkụ nke ụyọkọ akụrụngwa nwere ike ime ka mgbanwe dị na gburugburu ebe obibi. Ọ bụrụ na ọnụọgụ nke mgbasawanye ọkụ nke ụlọ mmepụta ihe, ntọala akụrụngwa na akụrụngwa ndị ọzọ dị oke elu, mgbanwe okpomọkụ ogologo oge ga-eme ka ala ahụ gbawaa na ntọala akụrụngwa na-agbanwe, si otú ahụ na-emetụta izi ezi nke ngwa ngwa dị ka igwe fotolithography na igwe etching. ;
Site n'iji ntọala granite dị ka akụrụngwa na-akwado ma jikọta ha na ihe ụlọ ụlọ mmepụta ihe na ọnụ ọgụgụ mgbasawanye ọkụ dị ala, enwere ike ịmepụta ebe mmepụta ihe kwụsiri ike, na-ebelata ugboro ole nhazi akụrụngwa na ụgwọ ọrụ na-akpata site na nrụrụ okpomọkụ gburugburu ebe obibi, na n'ịhụ na ogologo oge kwụsiri ike ọrụ nke semiconductor mmepụta akara. ;
Ọnụ ọgụgụ nke mgbasawanye okpomọkụ na-aga n'ihu na usoro ndụ nke mmepụta semiconductor, site na nhọrọ ihe, njikwa usoro na nkwakọ ngwaahịa na ule. Mmetụta nke mgbasawanye ọkụ kwesịrị ka echebara nke ọma echiche na njikọ ọ bụla. Ntọala Granite, yana ọnụ ọgụgụ dị ala nke mgbasawanye ọkụ na akụrụngwa ndị ọzọ mara mma, na-enye ntọala anụ ahụ kwụsiri ike maka nrụpụta semiconductor wee bụrụ nkwa dị mkpa maka ịkwalite mmepe nke usoro nrụpụta mgbawa gaa na nkenke dị elu.
Oge nzipu: Mee-20-2025